Research Statement
實驗室的研究領域涵蓋三個面向：
(1) 光學微影技術：專注於計算微影領域，包括光學鄰近修正 (OPC)、智能光罩修正 (IPC)、反向微影技術(ILT)、極紫外光微影 (EUV) 等技術。
(2) 超穎透鏡開發：
採用深紫外光 (DUV) 與 i-line 微影技術，在 8 吋玻璃晶圓上製作高效率可見光 (VIS) 和近紅外光 (NIR) 超穎透鏡。達成波長 532 nm (可見光)、1550 nm (近紅外光) 的高效光學性能。
結合光罩最佳化 (OPC)與 智能光罩修正 (IPC) 等技術提升製程準確性與效率。
(3) 擴增實境 (AR) 眼鏡：鑽研繞射波導與超穎表面光學結構，用於下一代 AR 顯示技術。
實驗室同時執行國科會(4) D-Wave 量子退火研發推動計劃，旨在推廣與利用量子退火技術解決複雜的優化問題，特別是在反向微影技術(ILT)和奈米光學的應用。通過整合上述領域的研究，我們旨在革新傳統光學系統的設計思維和製造流程，為未來的超穎光學元件、下世代顯示技術和量子運算等領域提供關鍵技術與支持。
1.
實驗室致力於計算微影技術的前沿研究，涵蓋以下核心領域：光學鄰近修正 (OPC)：優化微影製程中的光罩圖形，減少光學鄰近效應，提升製程精度。智能光罩修正 (IPC)：採用智能演算法修正光罩設計，以提高微影圖形與目標設計的匹配度。反向微影技術 (ILT)：針對複雜圖形進行反向設計光罩，以實現更高分辨率與擴大製程窗口。極紫外光微影 (EUV)：探索次 10 奈米製程的微影技術，以滿足下一代半導體製造需求。透過這些技術的發展，我們的目標是解決先進製程中的技術挑戰，推動半導體微影技術的進一步創新。反向微影技術 (Inverse Lithography Technology， ILT)什麼是反向...Read More
2.
實驗室專注於超穎表面光學的前沿技術開發，特別是在超穎透鏡與電腦生成全像片的設計與製作方面，涵蓋以下重點：超穎透鏡開發：採用深紫外光 (DUV) 與 i-line 微影技術，成功在 8 吋玻璃晶圓上製作高效率的可見光 (VIS) 和近紅外光 (NIR) 超穎透鏡，滿足多樣化應用需求。超穎表面全像片設計與實現：應用於精密光學元件製作，結合台灣杉高效平行運算平台以提升計算效率。製程優化技術：結合光罩最佳化 (OPC) 和智能光罩修正 (IPC) 技術，顯著提升超穎透鏡製程的準確性與效率，確保光學元件的高品質與穩定性。透過這些技術的發展，我們的目標是推動超穎表面技術在平面光學系統中的應用，發展次世代高...Read More
3.
實驗室專注於擴增實境 (AR) 技術的先進研究，主要探索與開發以下領域：
繞射波導結構：設計與優化波導光學系統，以實現高效能的光學顯示與影像傳輸。
超穎表面光學：結合超穎結構的創新技術，提升AR眼鏡光學性能，滿足下一代 AR 顯示的需求。
透過這些技術的發展，我們的目標是推動 AR 眼鏡的技術革新，實現輕量化、高效能的顯示解決方案。
Read More4.
量子計算正處於快速發展階段，其中量子退火技術利用量子位元可高效解決最佳化問題，而D-Wave公司是全球首家提供量子退火電腦的供應商。台灣作為半導體和科技強國，亦積極投入量子運算的研發，本計畫旨在推廣D-Wave量子退火技術在各研究工程領域的應用，加速其實用化發展，透過規劃部署，D-Wave平台的引入可望促進量子退火在台灣的研究進展與工程實踐，為產業發展提供新動能。此技術欲解決問題：利用量子退火計算解決光學微影技術中複雜且計算密集的光罩優化問題，目標是透過量子的物理特性快速且精準的生成能夠產生與目標設計高度匹配之晶圓圖像的光罩設計。重要性/突破性：此技術證明將量子退火應用於光罩反向優化問題上的潛...Read More